吳漢明：本土可控的55nm芯片制造，比完全進(jìn)口的7nm更有意義
在中國工程院主辦的“中國工程院信息與電子工程前沿論壇”上，中國工程院院士吳漢明對光刻機(jī)、產(chǎn)業(yè)鏈國產(chǎn)化等關(guān)鍵問題進(jìn)行了分析，并提出，中國的集成電路產(chǎn)業(yè)當(dāng)下主要面臨兩大壁壘：政策壁壘和產(chǎn)業(yè)性壁壘。前者包括巴統(tǒng)和瓦森納協(xié)議，后者則是世界半導(dǎo)體龍頭長期以來積累的專利，形成的專利護(hù)城河。此外，他還稱：本土可控的55nm芯片制造，比完全進(jìn)口的7nm更有意義。
核心技術(shù)受制于人是我國的大隱患，中興、華為事件的發(fā)生已經(jīng)給我們敲響了警鐘，只有在關(guān)鍵技術(shù)上掌握自主知識產(chǎn)權(quán)，才能占據(jù)主動地位，避免“卡脖子”的事件再次發(fā)生。同時，芯片獨(dú)立自主與全球化也并不矛盾，參與國際分工與合作才能走得更好更快。一方面我國芯片產(chǎn)業(yè)可以依靠全球化紅利，與友好國家互動；另一方面在核心問題上依然需要號召力，集中力量辦大事。
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