今日,拓荊科技股份有限公司進行新股發(fā)行網(wǎng)上路演。作為國內(nèi)高端半導體設(shè)備行業(yè)重要的領(lǐng)軍企業(yè),拓荊科技自成立以來,專注于芯片制造所需的核心設(shè)備之一—薄膜沉積設(shè)備領(lǐng)域,現(xiàn)已成為國內(nèi)唯一一家產(chǎn)業(yè)化應用的集成電路PECVD、SACVD設(shè)備廠商,也是國內(nèi)領(lǐng)先的ALD設(shè)備廠商。
把握行業(yè)發(fā)展機遇 提升市場份額
根據(jù)SEMI統(tǒng)計,2020年全球半導體設(shè)備銷售額達712億美元,年均復合增長率達11.28%,具有較高的成長性。
拓荊科技聚焦的薄膜沉積設(shè)備與光刻設(shè)備、刻蝕設(shè)備共同構(gòu)成晶圓制造三大核心設(shè)備,決定了半導體芯片制造工藝的先進程度。
拓荊科技深耕行業(yè)十余年,夯實技術(shù)儲備,充分把握行業(yè)機遇,加強自主研發(fā)技術(shù)可控,形成了包括等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設(shè)備、原子層沉積(ALD)設(shè)備和次常壓化學氣相沉積(SACVD)設(shè)備三個產(chǎn)品系列。
公司近年來的營業(yè)收入和客戶數(shù)量均實現(xiàn)快速增長。2018年至2021年,拓荊科技累計實現(xiàn)營業(yè)收入15.15億元,其中2021年營收增長率高達74%。公司主要產(chǎn)品已批量發(fā)往各大行業(yè)領(lǐng)先集成電路制造企業(yè)產(chǎn)線,廣泛應用于國內(nèi)晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產(chǎn)線,同時公司在研產(chǎn)品也已發(fā)往國際領(lǐng)先晶圓廠,參與其先進制程工藝研發(fā)。
預計未來,拓荊科技的三大系列產(chǎn)品將持續(xù)受益行業(yè)高景氣度,迎來業(yè)績高速增長期。
持續(xù)研發(fā)投入,打破技術(shù)壟斷
核心技術(shù)是企業(yè)在市場競爭中的根本。拓荊科技作為高新技術(shù)企業(yè),一直立足于自主創(chuàng)新,持續(xù)投入研發(fā)。2018年至2021年1-9月,拓荊科技分別投入研發(fā)10,797.31萬元、7,431.87萬元、12,278.18萬元和12,955.63 萬元,分別占各期營業(yè)收入152.84%、29.58%、28.19%和34.65%。
在半導體薄膜沉積設(shè)備領(lǐng)域,拓荊科技積累了多項研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化的核心技術(shù),并達到國際先進水平。數(shù)據(jù)顯示,截至2022年3月8日,拓荊科技累計獲取授權(quán)專利174項,其中發(fā)明專利共計98項。同時,公司還先后承擔了“90-65nm等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備研發(fā)與應用”、“1x nm 3D NAND PECVD 研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”等多項項國家重大專項/課題。
憑借深厚的技術(shù)積累和巨額研發(fā)投入,拓荊科技持續(xù)創(chuàng)新不斷推出滿足市場需求的新產(chǎn)品。在PECVD、ALD及SACVD設(shè)備領(lǐng)域,拓荊科技已形成覆蓋二十余種工藝型號的薄膜沉積設(shè)備,可滿足下游客戶晶圓制造產(chǎn)線多種薄膜沉積工藝需求,并一舉打破薄膜沉積設(shè)備長時間被國際巨頭壟斷局面,成為可與國際巨頭直接競爭的半導體高端設(shè)備制造廠商。
注重人才培養(yǎng) 提升市場競爭力
拓荊科技創(chuàng)始團隊是以歸國海外專家為核心,以前后兩任董事長為核心的多名國家級海外高層次專家組建了一支國際化技術(shù)團隊。公司國際化、專業(yè)化的高級管理團隊、全員持股的激勵制度,吸引了大量具有豐富經(jīng)驗的國內(nèi)外半導體設(shè)備行業(yè)專家加入。
成立數(shù)年來,拓荊科技始終立足核心技術(shù)研發(fā),積極引進海外高層次人才、自主培養(yǎng)本土科研團隊。隨著多項產(chǎn)品的研發(fā)成功,公司本土科研團隊已成長為技術(shù)研發(fā)的中堅力量。
據(jù)悉,截至2021年9月30日,拓荊科技累計有研發(fā)人員189名,占員工總數(shù)的44.06%。公司研發(fā)技術(shù)團隊結(jié)構(gòu)合理,分工明確,專業(yè)知識儲備深厚,產(chǎn)線驗證經(jīng)驗豐富,是奠定公司技術(shù)實力的基石,是公司產(chǎn)品市場競爭力的有力保障。
戰(zhàn)略布局未來發(fā)展 打造半導體設(shè)備制造領(lǐng)軍者
拓荊科技本次擬募集資金逾10億元,主要用于高端半導體設(shè)備擴產(chǎn)、先進半導體設(shè)備的技術(shù)研發(fā)與改進,以及ALD 設(shè)備研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化等項目。
公司表示,未來將持續(xù)保持最新技術(shù)的研究和投入,堅持技術(shù)和產(chǎn)品創(chuàng)新,繼續(xù)專注于高端半導體設(shè)備的研發(fā)生產(chǎn),擴大現(xiàn)有設(shè)備市場占有率,提高公司設(shè)備的技術(shù)先進性,豐富公司設(shè)備種類,拓展技術(shù)應用領(lǐng)域,提高公司綜合競爭力,打造半導體設(shè)備制造領(lǐng)軍者。(燕云)