超聲空化閥值和超聲波的頻率有密切關(guān)系，頻率越高，空化閥越高。超聲波清洗機(jī)換句話說，頻率低，空化越容易產(chǎn)生，而且在低頻情況下液體受到的壓縮和稀疏作用有更長的時(shí)間間隔，使氣泡在崩潰前能生長到較大的尺寸，增高空化強(qiáng)度，有利于清洗作用。
所以低頻超聲清洗適用于大部件表面或者污物和清洗件表面結(jié)合度高的場合。但易腐蝕清洗件表面，不適宜清洗表面光潔度高的部件，而且空化噪音大。４０ＫＨＺ左右的頻率，在相同聲強(qiáng)下，產(chǎn)生的空化泡數(shù)量比頻率為２０ＫＨＺ時(shí)多，穿透力較強(qiáng)，宜清洗表面形狀復(fù)雜或有盲孔的工件，空化噪音較小，但空化強(qiáng)度較低，適合清洗污物與被清洗件表面結(jié)合力較弱的場合。高頻超聲清洗適用于計(jì)算機(jī)，微電子元件的精細(xì)清洗；兆赫超聲清洗適用于集成電路芯片、硅片及波薄膜的清洗，能去除微米、亞微米級的污物而對清洗件沒有任何損傷。因此從清洗效果及經(jīng)濟(jì)性考慮，頻率一般選擇在２０—１３０ＫＨＺ范圍，當(dāng)然正確選擇頻率至關(guān)重要，而具體合適的工作頻率的選取需要做一定的實(shí)驗(yàn)取得。
相關(guān)建材詞條解釋：
空化
cavitation液體內(nèi)局部壓強(qiáng)降低到液體的飽和蒸氣壓時(shí)，液體內(nèi)部或液固交界面上出現(xiàn)的蒸氣或氣體空泡的形成、發(fā)展和潰滅的過程 。描述空化狀態(tài)的無量綱組合 量稱為空化數(shù) σ。，其中p∞、v∞分別為液體未擾動處的壓強(qiáng)和流速，ρ為液體密度，pv為液體在環(huán)境溫度下的飽和蒸氣壓?？栈瘮?shù)愈小 ，空化現(xiàn)象愈顯著 。通過改變來流壓強(qiáng)或速度，可改變空化數(shù)和空化狀態(tài)。有關(guān)空化的基礎(chǔ)研究包括空化機(jī)理、空蝕、空泡流理論、空化效應(yīng)和非定常空化等課題。水力機(jī)械、高速涵洞、水翼、舵、水中兵器等都會遇到空化問題，致使材料剝蝕，機(jī)械效率降低，并產(chǎn)生振動和噪聲。但在流態(tài)顯示、水力鉆孔和工業(yè)清洗作業(yè)中，也可發(fā)揮空化的有益作用。
頻率
頻率【詞目】：頻率【拼音】：pinlv【解釋】：物質(zhì)在1秒內(nèi)完成周期性變化的次數(shù)叫做頻率，常用f表示。
所以低頻超聲清洗適用于大部件表面或者污物和清洗件表面結(jié)合度高的場合。但易腐蝕清洗件表面，不適宜清洗表面光潔度高的部件，而且空化噪音大。４０ＫＨＺ左右的頻率，在相同聲強(qiáng)下，產(chǎn)生的空化泡數(shù)量比頻率為２０ＫＨＺ時(shí)多，穿透力較強(qiáng)，宜清洗表面形狀復(fù)雜或有盲孔的工件，空化噪音較小，但空化強(qiáng)度較低，適合清洗污物與被清洗件表面結(jié)合力較弱的場合。高頻超聲清洗適用于計(jì)算機(jī)，微電子元件的精細(xì)清洗；兆赫超聲清洗適用于集成電路芯片、硅片及波薄膜的清洗，能去除微米、亞微米級的污物而對清洗件沒有任何損傷。因此從清洗效果及經(jīng)濟(jì)性考慮，頻率一般選擇在２０—１３０ＫＨＺ范圍，當(dāng)然正確選擇頻率至關(guān)重要，而具體合適的工作頻率的選取需要做一定的實(shí)驗(yàn)取得。
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空化
cavitation液體內(nèi)局部壓強(qiáng)降低到液體的飽和蒸氣壓時(shí)，液體內(nèi)部或液固交界面上出現(xiàn)的蒸氣或氣體空泡的形成、發(fā)展和潰滅的過程 。描述空化狀態(tài)的無量綱組合 量稱為空化數(shù) σ。，其中p∞、v∞分別為液體未擾動處的壓強(qiáng)和流速，ρ為液體密度，pv為液體在環(huán)境溫度下的飽和蒸氣壓?？栈瘮?shù)愈小 ，空化現(xiàn)象愈顯著 。通過改變來流壓強(qiáng)或速度，可改變空化數(shù)和空化狀態(tài)。有關(guān)空化的基礎(chǔ)研究包括空化機(jī)理、空蝕、空泡流理論、空化效應(yīng)和非定常空化等課題。水力機(jī)械、高速涵洞、水翼、舵、水中兵器等都會遇到空化問題，致使材料剝蝕，機(jī)械效率降低，并產(chǎn)生振動和噪聲。但在流態(tài)顯示、水力鉆孔和工業(yè)清洗作業(yè)中，也可發(fā)揮空化的有益作用。
頻率
頻率【詞目】：頻率【拼音】：pinlv【解釋】：物質(zhì)在1秒內(nèi)完成周期性變化的次數(shù)叫做頻率，常用f表示。
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